国内光刻机多少纳米(28纳米的光刻机)

如果国产芯中国“芯”！没有华为在通信技术领域的异军突起，直接威胁到西方发达国家的核心利益，美国也不会如此丧心病狂地以一国之力对付一家企业。我们老百姓当然不会关注芯片，芯片本来就属于科技领域。如今，“华为5G”和“芯片”这两个话题是中国街头和餐馆里最热门的话题。

人们惊讶的不仅仅是中国的科技水平达到了这个水平，对于我国什么时候才能突破高端芯片的技术封锁而着急.毕竟也是如此，我们很多人都知道，我们错过了第一次和第二次工业革命之后，我们的国家落后了两百多年，所以大家都知道下一次工业革命的重要性。碰巧的是，华为5G的全球领先让我们看到了中国不仅能够赶上第四次工业革命甚至可能在很大程度上引领第四次工业革命，大家都很兴奋。

然而，目前我们必须认识到，在我国在半导体集成电路方面还和西方发达国家及企业有着不小的差距。,的这个关头，美国开始歇斯底里地打击中国的科技企业，企图减缓中国整个半导体领域的发展。因此，我们非常焦虑，我国何时才能突破芯片的技术封锁呢？.

当然，担心解决不了任何问题。如果担心有用，那些研究人员和科学家是干什么的？一方面，我们在着急的同时，也不得不清醒地认识到，即使在西方国家联手封杀我们芯片技术的背景下，我们自己的科技企业还是取得了突破性的研究成果。

例如，中国现有的举世闻名的北斗全球定位导航卫星，其中的三号芯片现在就在已经成功的打破了22nm的上限，上海微电子也在当前大背景下加班加点的研制出了能够生产22nm的光刻机.这个消息使全国的科技界非常兴奋。

光刻机国内突破22纳米，差距还是很大的。为什么研究人员如此兴奋？

不明所以的部分网友很好奇。现在，甚至全球最顶尖的芯片是5nm制程技术的3纳米工艺也在研究和设计中。我们才刚刚到22nm就让国内科研人员异常兴奋呢？的原因其实很简单。比如在你极度饥饿的时候，别说给你一桌美食，就是给你一个淡而无味的白面馒头，你也能吃的津津有味！

在上海微电子技术突破之前，我国国产光刻机还停留在只制造90nm芯片的阶段。不言而喻，这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。掌握自己的核心技术是多么重要。在突破关键领域后，R & amp高阶光刻机的速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

与此同时，西方发达国家硅基芯片的制造已经逼近物理极限，“摩尔定律”正在逐渐失效，中国的芯片技术也在不断突破。在这种权衡下，中国芯片制造能力赶上世界领先水平只是时间问题。更何况中国也在研究更有竞争力的“碳基芯片”，如果一旦研制成功，我们甚至都不需要再依赖光刻机，那么西方国家的封锁手段也会随之土崩瓦解。

所以不能只是焦虑，还是要对中国芯片领域的发展充满信心。

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